한국폴리텍대학 전국 캠퍼스 안내

캠퍼스명을 선택하시면 해당 홈페이지로 이동합니다.

한국폴리텍대학 전국 캠퍼스 지도
  • Ⅰ대학
  • Ⅱ대학
  • Ⅲ대학
  • Ⅳ대학
  • Ⅴ대학
  • Ⅵ대학
  • Ⅶ대학
  • 특성화
  • 인재원
  • 신기술교육원
  • 기술대안고교
한국폴리텍대학 전국 캠퍼스 바로가기 닫기

한국폴리텍대학 반도체융합캠퍼스

campus 콘텐츠영역

location영역

반도체융합캠퍼스 본문

작업실현황

실습장현황 세정·박막증착 공정장비 세정 장비 / 저압화학기상증착 / 박막 증착 장비 / 급속열처리공정
 
장비보유내역
장비보유내역 테이블
실습실 장비명 규격 비고
세정·
박막증착
공정장비
세정 장비 (Wet Station I) 감광물질의 현상, 세척 및 식각  
저압화학기상증착 (LPCVD) 6인치 wafer
Dry/Wet Oxidation
 
박막 증착 장비(RF-DC Sputtering) 6인치 wafer
4인치 Target
 
급속열처리공정 (RTP) 6인치 wafer
온도범위 < 1000 ℃
Gas : N2, O2
 
사진
공정장비
마스크 얼라이너 (Mask Aligner) 6인치 wafer
Resolution : 1㎛
 
스핀 코팅 & 오븐 시스템 (Spin and Oven Coater) 6인치 wafer
온도범위 : -150 ~ 550 ℃
 
반도체
계측장비
면저항 측정기 (4-Point Probe) 8인치 wafer
측정범위 : 1 mΩ/sq - 2 MΩ/sq
 
박막두께측정기 (Spectroscopic Ellipsometer) 8인치 wafer
Thickness 범위 : sub Å ~ 10㎛
 
표면단차 분석기 (Surface Profiler) 8인치 wafer
단차 범위 : sub Å ~ 10㎛
 
반도체
검사·평가
장비
 
선폭 광학현미경 
(Optical Microscope)
8인치 wafer
관찰 범위 : 10X - 1000X
 
프로브 스테이션 (Probe Station) 8인치 wafer
~ 90x 정밀 현미경
 
반도체 소자 측정기 (CR Analyzer) ~ 100 mA, ~ 100 V, 4 SMU’s, 2VMS’s 
누설전류 ~ 10fA 이하