한국폴리텍대학 전국 캠퍼스 안내
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서울.경기: ①Ⅰ대학(1대학) ②Ⅱ대학(2대학) 강원도: ③Ⅲ대학(3대학) 충청북도: ④Ⅳ대학(4대학), ■기술대안고교 충청남도: ④Ⅳ대학(4대학), ★특성화 전라북도: ⑤Ⅴ대학(5대학), ●인재원, ◆신기술교육원 전라남도: ⑤Ⅴ대학(5대학) 경상북도: ⑥Ⅵ대학(6대학), ★특성화 경상남도: ⑦Ⅶ대학(7대학), ★특성화 제주도: ①Ⅰ대학(1대학)
- 서울.경기 : 서울정수캠퍼스, 서울강서캠퍼스, 성남캠퍼스, 융합기술교육원, 인천캠퍼스, 남인천캠퍼스, 화성캠퍼스, 광명융합기술교육원, 반도체융합캠퍼스
- 강원도 : 춘천캠퍼스, 원주캠퍼스, 강릉캠퍼스
- 충청북도 : 청중캠퍼스, 충주캠퍼스, 다솜고등학교
- 충청남도 : 대전캠퍼스, 아산캠퍼스, 충남캠퍼스, 바이오캠퍼스
- 경상북도 : 대구캠퍼스, 남대구캠퍼스, 구미캠퍼스, 포항캠퍼스, 영주캠퍼스, 영남융합기술캠퍼스, 로봇캠퍼스
- 전라북도 : 전북캠퍼스, 익산캠퍼스, 인재원, 신기술교육원
- 경상남도 : 창원캠퍼스, 부산캠퍼스, 울산캠퍼스, 동부산캠퍼스, 진주캠퍼스, 석유화학공정기술교육원, 항공캠퍼스
- 전라남도 : 광주캠퍼스, 전남캠퍼스, 순천캠퍼스
- 제주도 : 제주캠퍼스
- ①Ⅰ대학
- ②Ⅱ대학
- ③Ⅲ대학
- ④Ⅳ대학
- ⑤Ⅴ대학
- ⑥Ⅵ대학
- ⑦Ⅶ대학
- ★특성화
- ●인재원
- ◆신기술교육원
- ■기술대안고교
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경상도
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반도체융합캠퍼스 본문
작업실현황
장비보유내역
| 실습실 | 장비명 | 규격 | 비고 |
|---|---|---|---|
| 세정· 박막증착 공정장비 |
세정 장비 (Wet Station I) | 감광물질의 현상, 세척 및 식각 | |
| 저압화학기상증착 (LPCVD) | 6인치 wafer Dry/Wet Oxidation |
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| 박막 증착 장비(RF-DC Sputtering) | 6인치 wafer 4인치 Target |
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| 급속열처리공정 (RTP) | 6인치 wafer 온도범위 < 1000 ℃ Gas : N2, O2 |
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| 사진 공정장비 |
마스크 얼라이너 (Mask Aligner) | 6인치 wafer Resolution : 1㎛ |
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| 스핀 코팅 & 오븐 시스템 (Spin and Oven Coater) | 6인치 wafer 온도범위 : -150 ~ 550 ℃ |
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| 반도체 계측장비 |
면저항 측정기 (4-Point Probe) | 8인치 wafer 측정범위 : 1 mΩ/sq - 2 MΩ/sq |
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| 박막두께측정기 (Spectroscopic Ellipsometer) | 8인치 wafer Thickness 범위 : sub Å ~ 10㎛ |
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| 표면단차 분석기 (Surface Profiler) | 8인치 wafer 단차 범위 : sub Å ~ 10㎛ |
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| 반도체 검사·평가 장비 |
선폭 광학현미경 (Optical Microscope) |
8인치 wafer 관찰 범위 : 10X - 1000X |
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| 프로브 스테이션 (Probe Station) | 8인치 wafer ~ 90x 정밀 현미경 |
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| 반도체 소자 측정기 (CR Analyzer) | ~ 100 mA, ~ 100 V, 4 SMU’s, 2VMS’s 누설전류 ~ 10fA 이하 |